電鍍工藝流程資料(一),電鍍,鍍液,電流,鍍銅-SMT 技術文章
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一、名詞定義: 1.1電鍍:利用電解的方法使金屬或合金沉積在工件表面,以形成均勻、致密、結合力良好的金屬層的過程叫電鍍。 1.2 鍍液的分散能力: 能使鍍層金屬在工件凸凹不平的表面上均勻沉積的能力,叫做鍍液的分散能力。換名話說,分散能力是指溶液所具有的使鍍件表面鍍層厚度均勻分布的能力,也叫均鍍能力。 1.3鍍液的覆蓋能力:使鍍件深凹處鍍上鍍層的能力叫覆蓋能力,或叫深鍍能力,是用來說明電鍍溶液使鍍層在工件表面完整分布的一個概念。 1.4鍍液的電力線:電鍍溶液中正負離子在外電場作用下定向移動的軌道,叫電力線。 1.5尖端效應:在工件或極板的邊緣和尖端,往往聚集著較多的電力線,這種現象叫尖端效應或邊緣效應。 1.6電流密度:在電鍍生產中,常把工件表面單位面積內通過的電流叫電流密度,通常用安培/分米2作為度量單位。
二.鍍銅的作用及細步流程介紹: 2.1.1鍍銅的基本作用: 2.1.1提供足夠之電流負載能力; 2.1.2提供不同層線路間足夠之電性導通; 2.1.3對零件提供足夠穩定之附著(上錫)面; 2.1.4對SMOBC提供良好之外觀。 2.1.2.鍍銅的細步流程: 2.1.2.1ⅠCu流程:上料→酸浸(1)→酸浸(2)→鍍銅→雙水洗→抗氧化→水洗→下料→剝掛架→雙水洗→上料 2.1.2.2ⅡCu流程:上料→清潔劑→雙水洗→微蝕→雙水洗→酸浸→鍍銅→雙水洗→(以下是鍍錫流程) 2.1.3鍍銅相關設備的介紹: 2.1.3.1槽體:一般都使用工程塑膠槽,或包覆材料槽(Lined tank),但仍須注意應用之考慮。 a. 材質的匹配性(耐溫、耐酸堿狀況等)。 b. 機械結構:材料強度與補強設計,循環過濾之入/排口吸清理維護設計等等。 c. 陰、陽極間之距離空間(一般掛架鍍銅最少6英寸以上)。 d. 預行Leaching之操作步驟與條件。 2.1.3.2溫度控制與加熱:鍍槽之控制溫度依添加特性/鍍槽之性能需求而異。一般而言操作溫度與操作電流密度呈正向關系,但無論高溫或低溫操作,有機添加劑必定有分解問題。一般而言,不容許任何局部區域達60℃以上。在材質上,則須對耐腐蝕性進行了解,避免超出特性極限,對鍍銅而言,石英及鐵弗龍都是很適合的材料。
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